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產(chǎn)品中心材料樣品處理小型濺射儀KT-Z1650PVD金屬磁控濺射儀
產(chǎn)品簡介
金屬磁控濺射儀， 外形小巧 ，功率電流大小可調(diào)，觸摸屏控制，有工藝儲存功能，外配水冷機可長時間工作。
| 品牌 | 鄭科探 | 濺射氣體 | 根據(jù)需求通氣 |
|---|---|---|---|
| 樣品臺尺寸 | 50mm | 控制方式 | 觸摸屏智能控制 |
| 樣品倉尺寸 | φ160x160mm | 靶材尺寸 | 50mm |
| 靶材材質(zhì) | 金 鉑 銅 銀 等 | 價格區(qū)間 | 面議 |
| 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 應用領域 | 綜合 |
金屬磁控濺射儀這是一種易于使用的基本儀器，用于SEM試樣的鍍金。它具有全可變電流控制、帶暫停選項的數(shù)字過程定時器、可變高度試樣臺、鉸鏈頂板和 O 形圈密封真空室。該控制裝置允許獨立于氣體壓力設置濺射電流，氣體壓力由手動泄漏閥單獨調(diào)節(jié)。覆蓋面和晶粒尺寸針對任何試樣進行了優(yōu)化,徑目標的冷磁控管型磁頭能夠以最小的加熱實現(xiàn)高效的濺射。鍍膜時間由帶有數(shù)字讀數(shù)的定時器設置并存儲在存儲器中。真空狀態(tài)和濺射電流顯示在C觸摸屏上。
金屬磁控濺射儀廠家供應技術(shù)參數(shù)；
控制方式 | 7寸人機界面 手動 自動模式切換控制 |
濺射電源 | 直流濺射電源 |
鍍膜功能 | 0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序 |
功率 | ≤1000W |
輸出電壓電流 | 電壓≤1000V 電流≤1A |
真空 | 機械泵 ≤5Pa（5分鐘） 分子泵≤5*10^-3Pa |
濺射真空 | ≤30Pa |
擋板類型 | 電控 |
真空腔室 | 石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm |
樣品臺 | 可旋轉(zhuǎn)φ62 （可安裝φ50基底） |
樣品臺轉(zhuǎn)速 | 8轉(zhuǎn)/分鐘 |
樣品濺射源調(diào)節(jié)距離 | 40-105mm |
真空測量 | 皮拉尼真空計（已安裝 測量范圍10E5Pa 1E-1Pa） |
預留真空接口 | KF25抽氣口 KF16放氣口 6mm卡套進氣口 |
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